المكونات الرئيسية للمجهر الإلكتروني الماسح تشمل:
مصدر الإلكترون – هذا هو المكان الذي يتم فيه توليد الإلكترونات حرارياً عند جهد 1-40 كيلو فولت. تتكثف الإلكترونات في حزم تُستخدم لإنشاء صور وتحليلات محاكاة. يمكن استخدام ثلاثة أنواع من مصادر الإلكترون. سلك التنغستن وسداسي بوريد اللانثانم ومدفع الانبعاث الميداني (FEG)
العدسات – تحتوي على عدة عدسات مكثفة تعمل على تركيز شعاع الإلكترون من المصدر عبر العمود إلى شعاع ضيق، مكونًا بقعة تسمى حجم البقعة.
ملف المسح – يستخدم لتوجيه الشعاع نحو سطح العينة.
الكاشف – يتكون من عدة كواشف قادرة على التمييز بين الإلكترونات الثانوية والإلكترونات المرتدة والإلكترونات المرتدة المنعكسة. تعتمد وظيفة الكاشف بشكل كبير على سرعة الجهد وكثافة العينة.
جهاز العرض (جهاز إخراج البيانات)
مزود الطاقة
نظام الشفط
مثل المجهر الإلكتروني النافذ، يجب أن يكون المجهر الإلكتروني الماسح خاليًا من الاهتزازات وأي عناصر كهرومغناطيسية.
